Thèse intitulée : « Experimental study and kinetic modelling of chemical vapor deposition process of silicon oxide and oxynitride thin films for aqueous corrosion barriers ».

À cause de la situation sanitaire actuelle, je vous invite à y assister en visioconférence via le lien zoom suivant :

Lien Zoom : https://inp-toulouse-fr.zoom.us/j/97796082257?pwd=TG53ejNxaXc0Z0pUY1BZUGhuZHdYUT09

ID de réunion : 977 9608 2257
Code secret : 147477

Le lien sera actif aux alentours de 13h30, merci de bien vouloir garder micros et caméras coupés

Composition du jury :

• Mme Anjana DEVI, Professeure, Ruhr University Bochum (rapporteur)
• Mr Khaled HASSOUNI, Professeur des universités, LSPM-Université Paris 13 (rapporteur)
• Mme Nathanaelle SCHNEIDER, Chargée de Recherche CNRS, IPVF (examinatrice)
• Mr Sotiris PRATSINIS, Professeur, ETH Zürich (examinateur)
• Mme Brigitte CAUSSAT, Professeure, LGC-ENSIACET (directrice de thèse)
• Mr Constantin VAHLAS, Directeur de Recherche CNRS, CIRIMAT-ENSIACET (co-directeur de thèse)
• Mr Hugues VERGNES, Maitre de conférences, LGC-ENSIACET (co-encadrant de thèse, invité)
• Mr Pierre-Luc ETCHEPARE, Responsable R&D, SGD Pharma (invité)

Résumé de la thèse :

The deposition of silica-based thin films is widely used in industrial sectors like microelectronics, food packaging and pharmaceutics. Oftentimes, effective barrier properties and corrosion resistance are required, two characteristics directly linked to the densification of the coating network. For SiO₂ films, increased densification can be induced through the partial replacement of O anions by N or C ones, resulting in the production of silicon oxynitride (SiO_xN_y) or oxycarbide (SiO_xC_y). The present work concerns the SiO_xN_y production by thermal CVD using novel chemistries, attempting deposition at low temperatures compatible with heat sensitive and complex 3D substrates. A multidisciplinary approach combining materials science, analytical chemistry and process engineering coupled with computational calculations is used to establish correlations between process conditions, composition and performance, leading to durable silica-based materials for utilization in diverse application domains.

Mots clés : CVD, liquid corrosion resistance, thin films, SiO_xN_y, kinetic process modelling